China a construit un prototip de echipament EUV într-un laborator securizat din Shenzhen, conform Reuters. Proiectul, desfășurat în secret de ani, arată că Beijingul se apropie de litografia EUV, tehnologia cheie pentru cipuri avansate. Deși încă nu a produs cipuri funcționale, prototipul generează lumină ultraviolete extremă.

De ce litografia EUV este esențială pentru viitorul cipurilor
Echipamentele de litografie EUV imprimă circuite cu dimensiuni de ordinul nanometrilor, mult sub firul de păr. Cu circuite mai fine, cipurile devin mai puternice și mai eficiente, facilitând modele AI complexe și smartphone‑uri de ultimă generație. Până acum, tehnologia EUV a fost dominată de furnizori occidentali, iar restricțiile SUA au limitat accesul Chinei la aceste sisteme.

Progresul Chinei în tehnologia EUV
Prototipul din Shenzhen ocupă aproape un etaj de fabrică și a fost realizat prin reverse‑engineering. Inginerii chinezi au folosit piese recuperate și achiziții pe piața secundară pentru a construi echipamentul. Principalele realizări includ:

– generarea de lumină EUV la nivel operațional
– integrarea unor sisteme de control avansate dezvoltate intern

Provocările optice și componentele specializate
În ciuda succesului inițial, litografia EUV rămâne dependentă de optică de precizie și de componente ultra‑specializate. Obstacolele majore sunt:

1. producția de oglinzi multilayer cu reflectivitate ridicată
2. dezvoltarea surselor de plasma stabil, capabile să emită radiație EUV
3. calibrarea sistemelor de focalizare la toleranțe extreme

Furnizorii occidentali dețin procese industriale greu de replicat pe termen scurt.

Perspective și termene pentru cipuri funcționale
Guvernul chinez a indicat 2028 pentru prima serie de cipuri produse cu prototipul EUV, dar surse apropiate estimează 2030 ca orizont realist. Această prognoză depășește așteptările multor analiști, care anticipau un deceniu sau mai mult Pentru ca echipamentul să treacă în producție de masă, va fi necesară perfecționarea opticii și a controlului procesului.

Concluzia subliniază importanța monitorizării continue a evoluțiilor în litografia EUV și a impactului lor asupra industriei semiconductorilor și geopoliticii tehnologice. Informarea regulată rămâne esențială pentru a înțelege schimbările în echilibrul global al producției de cipuri.